hrvatski

Primjena laserski proizvedene plazme kao izvora u EUV litografiji

U ovom radu opisana je plazma općenito, njena svojstva i parametri kojima je karakteriziramo. Razmatrana je laserski proizvedena plazma u eksperimentu s nanosekundnim impulsima dušikovog lasera na metama od različitih materijala te napravljena usporedba s numeričkim modeliranjem međudjelovanja laserskog snopa s materijalom mete. Objašnjen je postupak litografije koji ima primjenu u elektronici, a poseban naglasak je stavljen na EUV litografiju. Opisana je primjena laserski proizvedene plazme kao izvora za EUV litografiju. Uočeni su problemi koji nastaju primjenom LPP u EUVL sustavima te ukazani načini za njihovo uklanjanje.

Plazma; laserski proizvedena plazma; litografija; EUV litografija

nije evidentirano