hrvatski

Razgradnja aromatskih onečišćivala UV/H2O2 procesom

Otpadne vode iz industrijske proizvodnje predstavljaju značajan ekološki problem te se kao takve ne mogu ispustiti u okoliš bez prethodne odgovarajuće obrade. Pored tradicionalnih metoda obrade, napredni oksidacijski procesi su jedna od mogućnosti obrade takvih otpadnih voda. U ovom radu je istraživan utjecaj tipa supstituenta te procesnih parametara (pH i [H2O2]), UV/H2O2 procesa na razgradnju pet aromatskih onečišćivala ; 4-hidroksibenzen sulfonske kiseline (HBSA), 4-toluen sulfonske kiseline (TSA), benzensulfonske kiseline (BSA), 4-klorbenzen sulfonse kiseline (CBSA) i 4-aminobenzen sulfonske kiseline (ABSA), korištenjem modificiranog faktorskog plana 33 i metode odzivnih površina. Sukladno dobivenim rezultatima analize varijance za razvijeni model odzivnih površina utvrđeno je da uz oba procesna parametra (pH i [H2O2]), struktura onečišćivala značajno utječe na njegovo predviđanje ponašanja istraživanog sustava. Ustanovljeni su različiti optimalni uvjeti te različite konstante brzine razgradnje za svako pojedino onečišćivalo. Određivana je biorazgradivost (BPK5/KPK) i toksičnost (TU) modelnih otpadnih voda prije i tijekom obrade UV/H2O2 procesom u refernetnim vremenima t1/2(P), t3/4(P), t1/4(OC) i t1/2(OC) obrade koji odgovaraju realnim vremenima potrebnim za smanjanje koncentracije početnog onečišćivala i ukupnog organskog sadržaja za 1/4, 1/2 i 3/4 od početnih količina. Razlike koje se javljaju posljedica su različitih tipova supstituenata na benzenskom prstenu.

otpadna voda; aromatska onečišćivala; metoda odzivnih površina; biorazgradivost; toksičnost

Asistenti: Hrvoje Kušić, Daria Juretić