STUDIJ RASTA BARIJERNOG FILMA NA VOLFRAMU U OTOPINI KLOROVODICNE KISELINE (CROSBI ID 571566)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa | domaća recenzija
Podaci o odgovornosti
Grubač, Zoran ; Metikoš-Huković, Mirjana
hrvatski
STUDIJ RASTA BARIJERNOG FILMA NA VOLFRAMU U OTOPINI KLOROVODICNE KISELINE
Visoka korozijska otpornost volframa u korozivnom mediju kao što je 1.0 mol dm-3 otopina HCl pripisana je svojstvima oksidnog filma. Kvantitativni podaci o elektrickim, dielektrickim svojstvima tog filma, kinetickim parametrima njegovog formiranja i rasta, u rasponu potencijala od 7 V, dobiveni su iz rezultata impedancijske spektroskopije.
volfram; oksidni film; visoko polje; impedancijska spektroskopija
nije evidentirano
engleski
A STUDY OF THE GROWTH OF A BARRIER FILM ON TUNGSTEN IN HYDROCHLORIC ACID SOLUTION
nije evidentirano
wolframe; oxide film; high field; impedance spectroscopy
nije evidentirano
Podaci o prilogu
103-103.
2001.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
2th Croatian Symposium on Electrochemistry
Podaci o skupu
2th Croatian Symposium on Electrochemistry
poster
17.09.2001-20.09.2001
Primošten, Hrvatska
