Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 449287

Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem


Radić, Nikola; Siketić, Zdravko; Bogdanović-Radović, Ivančica; Buljan, Maja; Desnica, Uroš V.; Slunjski, Robert; Pivac, Branko; Zorc, Hrvoje
Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem // Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa / Buljan, Hrvoje ; Horvatić, Davor (ur.).
Zagreb: Hrvatsko fizikalno društvo, 2009. str. 86-86 (poster, domaća recenzija, sažetak, znanstveni)


Naslov
Tanki filmovi SiOx pripravljeni magnetronskim rasprašenjem
(Thin films of SiOx prepared by magnetron sputtering)

Autori
Radić, Nikola ; Siketić, Zdravko ; Bogdanović-Radović, Ivančica ; Buljan, Maja ; Desnica, Uroš V. ; Slunjski, Robert ; Pivac, Branko ; Zorc, Hrvoje

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Sažeci sa skupova, sažetak, znanstveni

Izvornik
Zbornik sažetaka 6. Znanstvenog sastanka HFDa / Buljan, Hrvoje ; Horvatić, Davor - Zagreb : Hrvatsko fizikalno društvo, 2009, 86-86

ISBN
978-953-7178-12-3

Skup
6. Znanstveni sastanak Hrvatskog fizikalnog društva

Mjesto i datum
Primošten, Hrvatska, 8-11.10.2009

Vrsta sudjelovanja
Poster

Vrsta recenzije
Domaća recenzija

Ključne riječi
SiOx; tanki film; magnetronsko rasprašenje
(SiOx; thin film; magnetron sputtering)

Sažetak
Silicijevi oksidi su vrlo koristan materijal u mikroelektronici i optoelektronici zbog mogućnosti mijenjanja električnog otpora i optičkih osobina promjenom udjela kisika. Pri tome se SiOx<2 slojevi pretežno koriste kao pasivacijski sloj u MIS sklopovima, kao "potrošni" sloj u MEMS tehnologiji, ili kao početni materijal za formiranje kristalnih Si nanočestica u SiO2 matrici, dok se stehiometrijski SiO2 koristi kao izolator u mikroelektronici, optičke presvlake, ili kao podloga za heterogenu katalizu. Pri tome je magnetronsko rasprašenje osobito podesno za depoziciju na velikoj površini. Korištenjem različitih meta za rasprašivanje (Si, SiO, SiO2), u pojedinačnom ili kodepozicijskom režimu, te variranjem udjela kisika u Ar+O2 plazmi, postiže se precizna kontrola sastava SiOx filmova.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika



POVEZANOST RADA


Projekt / tema
098-0000000-3191 - Optička svojstva nanostrukturnih slojeva (Hrvoje Zorc, )
098-0982886-2866 - Temeljna svojstva nanostruktura i defekata u poluvodičima i dielektricima (Branko Pivac, )
098-0982886-2895 - Novi amorfni i nanostrukturirani tankoslojni materijali (Nikola Radić, )
098-1191005-2876 - Procesi interakcije ionskih snopova i nanostrukture (Milko Jakšić, )

Ustanove
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb