engleski

Structure of Ag-W thin film alloys

Tanki filmovi slitina potpuno nemješljivog binarnog sistema Ag-W pripravljeni su u širokom rasponu sastava magnetronskom kodepozicijom srebra i volframa. Brzina depozicije na podloge (staklo, korund, safir, mono-Si) pri sobnoj temperaturi bila je oko 0, 33 nm/s, a konačna debljina filmova bila je oko 0, 5 &#61549; m. Ispitan je utjecaj tlaka radnog plina, te dodatka kisika odnosno aluminija na strukturu filma. Kemijski sastava filma određen je RBS metodom, a struktura je ispitivana XRD, GISAXS i SEM tehnikama. U ispitanom rasponu sastava Ag94W6-Ag12W88 nije dobiven potpuno amorfni film. Prezasićena čvrsta otopina Al(W) sa fcc strukturom formira se pri <30 at.% W, dok se bcc čvrsta otopina formira pri većem udjelu volframa. Nanokristalna bcc faza (zrna veličine oko 5 nm) formira se u Ag-W slitinama sa 30-50 at.% W udjela. Elektronska mikroskopija (SEM) pokazuje značajne promjene u strukturi unutar ispitanog raspona sastava slitina: na granici fcc kristalne strukture kompaktni film jednolikih nanočestica (20-30 nm) rijetko je posut sa dobro razvijenim kristalima veličine nekoliko stotina nanometara. Uzorci sa više volframa imaju lisnatu strukturu dekoriarnu na površini sa čestima veličine 20-tak nm rasutim na međusobnojn udaljenosti oko 50-100 nanometara. U području sastava u kojem film ima nanokristalnu strukturu, film je izgrađen od gusto poslaganih diskolikih čestica pokrivenih na površini kristalićima veličine nekoliko desetaka nanometara. Opći trend, počevši od Ag- bogatih do W-bogatih slitina, je smanjenje kompaktnosti filma i smanjenje veličine čestica posutih po površini od nekoliko stotina do nekoliko desetaka nanometara. Rezultati GISAXS-a pokazuju nehomogenosti u gustoći elektrona veličine nekoliko nanometara, i vjerojatno se odnose na materijal među zrnima ili šupljine. Dodavanje kisika u film malo smanjuje prosječnu veličinu nanozrna, ali do dovodi do potpune amorfizacije.

Ag-W; thin films; structure

nije evidentirano