hrvatski

KINETIKA KRISTALIZACIJE AMORFNIH AlxMo1-x TANKIH FILMOVA U NE-IZOTERMNIM UVJETIMA

Neizotermna kinetika kristalizacije i fazna transformacija AlxMo1-x (30< x < 85) amorfnih tankih filmova promatrana je kontinuiranim in situ mjerenjem električne otpornosti u vakuumu. Uzorci su pripremljeni u sistemu CMS 18 magnetronskom kodepozicijom. Uzorci su radiativno grijani brzinama od 2 do 8 K/min, a termička stabilnost i kinetika kristalizacije mjerena je na uzorcima deponiranim na kvarcno staklo. Apsolutna vrijednost odgovarajućih temperaturnih koeficjenata otpornosti (TCR), a, raste s porastom udjela aluminija sve do vrijednosti - 13 x 10-4 K-1 za Al75Mo25 . Dobivene vrijednosti r i a, u dobrom su suglasju s Mooijevom korelacijom, i odražavaju tipična svojstva amorfnih materijala koji sadrže rane prijelazne metale. Energija aktivacije i avramijev eksponent određeni su u suglasju s JMA teorijom prilagođenoj ne-izotermnoj kinetici. Za izračunavanje avramijevog eksponenta neovisno o energiji aktivacije primjenjena je Ozawina metoda, i za amorfni Al75Mo25 dobivena je vrijednost n=2, dok je za isti sastav energija aktivacije Ea=1.4 eV. Dobiveni rezultat navodi na zaključak da je dominantni mehanizam kristalizacije pri izokronom grijanju kontroliran difuzijom s predefiniranim jezgrama.

krstalizacija; Al-Mo slitina; tanki filmovi

nije evidentirano