hrvatski

Optimisation of Ablative Capillary Discharge in PVC with Zinc as Additive

Kapilarni izboj kao pulsni izboj se može upotrijebiti kao izvor ekstremno ultraljubičastog (EUV) zračenja u novoj generaciji litografske tehnologije, u ekstremno ultraljubičastoj litografiji (EUVL). Stoga je značajno istraživanje svojstava i mogućnosti optimizacije takvog izvora zračenja. U ovom radu se opisuje EUV izvor baziran na ablativnom kapilarnom izboju kroz kapilaru od polivinil-klorida (PVC) s cinkom kao aditivom. On pokazuje pojasno zračenje na 10 nm i 15, 5 nm, s poluširinama od oko 1 nm i trajanjem izboja reda veličine 100 ns. Promjenom radnih parametara, posebice visokog napona (od 8 kV do 18 kV) pokušao se naći optimalni mod rada. Također se određivala temperatura plazme u ovoj vrsti PVC-a preko Boltzmannovog plota te napravila usporedba s drugim komercijalnim vrstama PVC-a. Usporedbom PVC+Zn plazme iz ablativnog kapilarnog izboja s laserski proizvedenom plazmom (LPP) cinka u EUV području pokazalo se da samo niska koncentracija aditiva u PVC-u i dobra termalizacija kapilarne plazme proizvodi dobro definirane pojaseve zračenja.

Ablativni kapilarni izboj; Izvori EUV zračenja; PVC

nije evidentirano