hrvatski

Elektrokemijska impedancija aluminija u limunskoj kiselini

Istraživana su elektrokemijska i površinska svojstva aluminija visoke čistoće (99.999 %) prekrivenog tankim oksidnim filmom, u otopini limunske kiseline (c = 0.05 mol dm-3, pH = 4-8), primjenom elektrokemijske impedancijske spektroskopije (EIS) u širokom području frekvencija (500 mHz - 100 kHz). Za mjerenja je korišten EG&G PAR potenciostat/galvanostat Model 273A i EG&G PAR Lock-In pojačalo Model 5310, kontrolirani pomoću računala. Elektrokemijska i povr{inska svojstva Al u ispitivanim otopinama limunske kiseline bitno su određena samim prisustvom, ali i svojstvima tankog oksidnog filma barijernog tipa, formiranog na njegovoj površini. Također na ukupno ponašanje sustava utjecaj ima i hidratizacija veze aluminij-kisik, te naknadna disocijacija površinskih -OH grupa što dovodi do mogućnosti odvijanja raznih površinskih procesa kao što su adsorpcija i površinsko kompleksiranje. Rezultati analize impedancijskih mjerenja pokazali su da je impedancija sustava karakterizirana pojavom visokofrekventnog kapacitivnog ponašanja, te niskofrekventnog induktivnog ponašanja. Kapacitivno ponašanje treba pripisati procesu formiranja i rasta oksidnog filma na Al kao i dielektričnim svojstvima tog filma. Pojavu induktivnog ponašanja vjerojatno treba pripisati relaksacijskim efektima adsorpcijskih procesa na granici faza oksidni film/otopina limunske kiseline, ali i dielektričnim relaksacijama unutar filma. Iz eksperimentalnih podataka upotrebom odgovarajućeg ekvivalentnog kruga odre|ene su vrijednost polarizacijskih otpora (Rp), kapaciteta (C) i induktiviteta (L) u ovisnosti o potencijalu anodizacije i o pH otopine limunske kiseline.

elektrokemijska impedancija; aluminij; limunska kiselina

nije evidentirano