Utjecaj otapala na fotokemijske reakcije N-aril-2-metil-3-metoksi-4-piridona (CROSBI ID 467725)
Prilog sa skupa u zborniku | sažetak izlaganja sa skupa
Podaci o odgovornosti
Stiplošek, Zdenka ; Jakopčić, Krešimir ; Šindler-Kulyk, Marija
hrvatski
Utjecaj otapala na fotokemijske reakcije N-aril-2-metil-3-metoksi-4-piridona
Studirajući fotokemijske reakcije 4-pirona i 4-piridona, primijećeno je da se neki metoksi supstituirani derivati tj. N-aril-2-metil-3-metoksi-4-piridoni (1a-e) pri osvjetljavanju ultraljubičastim svjetlom, bilo u polarnom otapalu (metanol) ili nepolarnim otapalima (benzen ili toluen) pregrađuju u 4-piridone supstituirane hidroksimetilnom skupinom. Međutim, kada se ti isti piridoni osvjetljavaju u kloroformu, jedini fotoprodukt su odgovarajući izomerni 2-piridoni (2a-e) koji su već nakon kratkog vremena osvjetljavanja (2 sata) izolirani u visokom iskorištenju (50-80 ). Ostatak reakcijske smjese čine polimerni materijali.
4-piron; 4-piridon; fotokemija; arilpiridon
nije evidentirano
engleski
The Solvent Influence on Photochemical Reactions of N-aryl-2-methyl-3-methoxy-4-pyridones
nije evidentirano
4-pyron; 4-pyridon; photochemistry; arylpyridon
nije evidentirano
Podaci o prilogu
90-x.
1999.
nije evidentirano
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
XVI. Hrvatski skup kemičara i kemijskih inženjera, SPLIT
Kurtanjek, Želomir ; Škare, Danko ; Meić, Zlatko
Koprivnica: Hrvatsko društvo kemijskih inženjera i tehnologa (HDKI) ; Hrvatsko kemijsko društvo
Podaci o skupu
XVI. Hrvatski Skup kemičara i kemijskih inženjera
poster
23.02.1999-26.02.1999
Split, Hrvatska