hrvatski

Utjecaj potencijala pasivacije na svojstva oksidnih filmova na Al-In slitinama u otopini boratnog pufera

U ovom radu ispitan je rast i svojstva oksidnih filmova na Al-In slitinama (s 0.020%, 0.037% i 0.074% In) u otopini boratnog pufera (pH 7.8) pri potenciostatskim uvjetima anodizacije. Anodizacija je provedena kod različitih potencijala pasivacije (od 0.0 V do 2.4 V) kroz vrijeme od 1 sata. Snimani su struja&#8211 ; vrijeme odgovori, određena je količina naboja koja se utroši u procesu anodizacije te izračunata debljina oksidnog filma. Pri određivanju električnih i dielektričnih svojstava anodno formiranih filmova korištena je elektrokemijska impedancijska spektroskopija. Predložen je ekvivalentni krug koji u potpunosti oslikava ispitani sustav Al-In slitina / oksidni film / elektrolit. Matematičkim usklađivanjem impedancijskog spektra s predloženim ekvivalentnim krugom određene su karakteristične veličine oksidnih filmova kao što su otpor, kapacitet i debljina. Ustanovljeno je da debljina i otpor oksidnog filma na Al-In slitinama rastu linearno porastom potencijala pasivacije. Oksidni filmovi na slitinama s većim sadržajem indija pokazuju bolja zaštitna svojstva (veći otpor, veća debljina) u odnosu na čisti aluminij. Nadalje, električno polje kroz oksidne slojeve na Al i Al-In slitinama je reda veličine MV cm-1 i lagano opada porastom sadržaja indija u slitini. To se pripisuje porastu debljine oksida s porastom postotka In u slitini. Mehanizam rasta oksidnog filma razmatran je kroz model točkastog defekta (&#8220 ; point defect model - PDM&#8221 ; ) kojeg su u literaturi predložili Macdonald i suradnici. Pokazalo se dobro slaganje eksperimentalnih rezultata s teorijom PDM.

Aluminij; Al-In slitina; Oksidni film; Iskorištenje struje

nije evidentirano