Napredna pretraga

Pregled bibliografske jedinice broj: 109849

Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije


Ivanda, Mile; Furić, Krešimir; Biljanović, Petar; Musić, Svetozar; Gotić, Marijan; Gamulin, Ozren; Gebavi, Hrvoje
Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije // Ruđer, 4 (2003), 2; 3-7 (podatak o recenziji nije dostupan, prikaz, stručni)


Naslov
Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije
(Presentation of the technological research and development project "Improvement and development of the LPCVD process" of the TEST program of the Ministry of Science and Technology)

Autori
Ivanda, Mile ; Furić, Krešimir ; Biljanović, Petar ; Musić, Svetozar ; Gotić, Marijan ; Gamulin, Ozren ; Gebavi, Hrvoje

Izvornik
Ruđer (1332-1080) 4 (2003), 2; 3-7

Vrsta, podvrsta i kategorija rada
Radovi u časopisima, prikaz, stručni

Ključne riječi
LPCVD; tanki film; polisilicijski termički grijač; nanosilicijsk laser
(LPCVD; thin film; polysilicon termical heater; nanosilicon laser)

Sažetak
Rast tankih filmova kemijskom depozicijom iz plinske faze pod niskim tlakom (engl. Low Pressure Chemical Vapour Deposition, LPCVD), jedna je od najvažnijih metoda depozicije tankih filmova i predstavlja temelj modernih tehnologija. Razlozi široke primjene LPCVD metode u zadnja dva desetljeća leži prvenstveno u mogućnosti deponiranja različitih elemenata i spojeva na relativno niskim temperaturama, u obliku amorfnih i polikristalnih filmova, sa velikim stupnjem uređenosti i čistoće. Metodu karakterizira jednostavno rukovanje i održavanje, visoka pouzdanost operacija, velika brzina depozicije, uniformna debljina sloja i visoka reproducibilnost. Zbog svega toga ova je metoda našla široku primjenu kod depozicije tankih filmova u poluvodičkoj industriji. U Hrvatskoj LPCVD metoda je postojala samo u nekadašnjoj tvornici poluvodiča RIZ. Uz podršku bivših djelatnika tvornice kao i podrške Ministarstva znanosti i tehnologije, ova tehnologija je prenešena na Institut  ; Ruđer Bošković ; , gdje je usvojena i dalje usavršena. U okviru ovog rada biti će izložene osnovne postavke LPCVD metode, kao i koncepcija razvoja novih proizvoda – ; polisilicijskog termičkog grijača i nanosilicijskog lasera, temeljenih na tehnologiji depozicije tankih filmova.

Izvorni jezik
Hrvatski

Znanstvena područja
Fizika, Kemija, Elektrotehnika



POVEZANOST RADA


Ustanove
Fakultet elektrotehnike i računarstva, Zagreb,
Institut "Ruđer Bošković", Zagreb