Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije (CROSBI ID 99298)
Prilog u časopisu | prikaz, osvrt, kritika
Podaci o odgovornosti
Ivanda, Mile ; Furić, Krešimir ; Biljanović, Petar ; Musić, Svetozar ; Gotić, Marijan ; Gamulin, Ozren ; Gebavi, Hrvoje
hrvatski
Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije
Rast tankih filmova kemijskom depozicijom iz plinske faze pod niskim tlakom (engl. Low Pressure Chemical Vapour Deposition, LPCVD), jedna je od najvažnijih metoda depozicije tankih filmova i predstavlja temelj modernih tehnologija. Razlozi široke primjene LPCVD metode u zadnja dva desetljeća leži prvenstveno u mogućnosti deponiranja različitih elemenata i spojeva na relativno niskim temperaturama, u obliku amorfnih i polikristalnih filmova, sa velikim stupnjem uređenosti i čistoće. Metodu karakterizira jednostavno rukovanje i održavanje, visoka pouzdanost operacija, velika brzina depozicije, uniformna debljina sloja i visoka reproducibilnost. Zbog svega toga ova je metoda našla široku primjenu kod depozicije tankih filmova u poluvodičkoj industriji. U Hrvatskoj LPCVD metoda je postojala samo u nekadašnjoj tvornici poluvodiča RIZ. Uz podršku bivših djelatnika tvornice kao i podrške Ministarstva znanosti i tehnologije, ova tehnologija je prenešena na Institut ; Ruđer Bošković ; , gdje je usvojena i dalje usavršena. U okviru ovog rada biti će izložene osnovne postavke LPCVD metode, kao i koncepcija razvoja novih proizvoda – ; polisilicijskog termičkog grijača i nanosilicijskog lasera, temeljenih na tehnologiji depozicije tankih filmova.
LPCVD; tanki film; polisilicijski termički grijač; nanosilicijsk laser
nije evidentirano
engleski
Presentation of the technological research and development project "Improvement and development of the LPCVD process" of the TEST program of the Ministry of Science and Technology
nije evidentirano
LPCVD; thin film; polysilicon termical heater; nanosilicon laser
nije evidentirano