hrvatski

Predstavljanje tehnologijsko-istraživačko-razvojnog projekta: "Usavršavanje i razvoj LPCVD procesa" iz programa TEST Ministarstva znanosti i tehnologije

Rast tankih filmova kemijskom depozicijom iz plinske faze pod niskim tlakom (engl. Low Pressure Chemical Vapour Deposition, LPCVD), jedna je od najvažnijih metoda depozicije tankih filmova i predstavlja temelj modernih tehnologija. Razlozi široke primjene LPCVD metode u zadnja dva desetljeća leži prvenstveno u mogućnosti deponiranja različitih elemenata i spojeva na relativno niskim temperaturama, u obliku amorfnih i polikristalnih filmova, sa velikim stupnjem uređenosti i čistoće. Metodu karakterizira jednostavno rukovanje i održavanje, visoka pouzdanost operacija, velika brzina depozicije, uniformna debljina sloja i visoka reproducibilnost. Zbog svega toga ova je metoda našla široku primjenu kod depozicije tankih filmova u poluvodičkoj industriji. U Hrvatskoj LPCVD metoda je postojala samo u nekadašnjoj tvornici poluvodiča RIZ. Uz podršku bivših djelatnika tvornice kao i podrške Ministarstva znanosti i tehnologije, ova tehnologija je prenešena na Institut  ; Ruđer Bošković ; , gdje je usvojena i dalje usavršena. U okviru ovog rada biti će izložene osnovne postavke LPCVD metode, kao i koncepcija razvoja novih proizvoda – ; polisilicijskog termičkog grijača i nanosilicijskog lasera, temeljenih na tehnologiji depozicije tankih filmova.

LPCVD; tanki film; polisilicijski termički grijač; nanosilicijsk laser

nije evidentirano