Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi

Kinetika rasta oksidnih filmova na Al u uvjetima potenciodinamičke anodizacije (CROSBI ID 437620)

Ocjenski rad | sveučilišni preddiplomski završni rad

Šako, Matea Kinetika rasta oksidnih filmova na Al u uvjetima potenciodinamičke anodizacije / Gudić, Senka (mentor); Split, Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu, . 2013

Podaci o odgovornosti

Šako, Matea

Gudić, Senka

hrvatski

Kinetika rasta oksidnih filmova na Al u uvjetima potenciodinamičke anodizacije

U ovom radu proučavani su rast i svojstva anodno formiranih oksidnih filmova na čistom aluminiju u otopinama limunske kiseline i natrijeva sulfata pri potenciodinamičkim uvjetima anodizacije. Snimani su ciklički voltamogrami u širokom području potencijala (OCP / 1.5 V / –1.5 V / OCP) uz različite brzine promjene potencijala (20, 40, 60, 80 i 100 mV s-1). Rezultati su uspoređeni s podacima iz literaturi koji opisuju rast oksidnog filma na aluminiju u otopini boratnog pufera. Ustanovljeno je da se rast oksidnih filmova na aluminiju u svim ispitivanim otopinama elektrolita zbiva aktivacijski kontroliranom ionskom vodljivošću pod utjecajem jakog električnog polja, prema eksponencijalnom zakonu za ventilne metale (mehanizam "aproksimacije visokog polja"). Elektrolitički parametri rasta oksida, konstante A i B, kao i ionska vodljivost kroz oksid rastu redom: borati  citrati  sulfati. U radu su određene i vrijednosti poluširina barijere za prijenos iona kroz oksidni sloj na Al, a dobiveni podaci predstavljaju realne vrijednost za prijenos iona između susjednih mjesta.

Aluminij ; Oksidni film ; Ciklička voltametrija ; Aproksimacija visokog polja

nije evidentirano

engleski

Growth kinetics of oxide films on Al in potentiodynamic anodization conditions

nije evidentirano

Aluminum ; oxide film ; cyclic voltammetry ; high field approximation

nije evidentirano

Podaci o izdanju

33

17.09.2013.

obranjeno

Podaci o ustanovi koja je dodijelila akademski stupanj

Kemijsko-tehnološki fakultet u Splitu

Split

Povezanost rada

Kemijsko inženjerstvo