Nalazite se na CroRIS probnoj okolini. Ovdje evidentirani podaci neće biti pohranjeni u Informacijskom sustavu znanosti RH. Ako je ovo greška, CroRIS produkcijskoj okolini moguće je pristupi putem poveznice www.croris.hr
izvor podataka: crosbi !

Utjecaj sastava metalne podloge na formiranje zaštitnog filma dugolančane fosfonske kiseline (CROSBI ID 437039)

Ocjenski rad | diplomski rad

Osrečak, Magdalena Utjecaj sastava metalne podloge na formiranje zaštitnog filma dugolančane fosfonske kiseline / Otmačić Ćurković, Helena (mentor); Zagreb, Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije, . 2020

Podaci o odgovornosti

Osrečak, Magdalena

Otmačić Ćurković, Helena

hrvatski

Utjecaj sastava metalne podloge na formiranje zaštitnog filma dugolančane fosfonske kiseline

Samoorganizirajući monoslojevi (SAM) dugolančanih organskih kiselina nastaju adsorpcijom kiseline na površini oksida metala što dovodi do kiselinsko- bazne reakcije između oksida metala kiseline. Samoorganizacijom alkilnih lanaca stvara se tanak i kompaktni film za površini. Samoorganizirajući monoslojevi su jednostavna i novija metoda zaštite materijala, imaju široku primjenu u biologiji, elektronici, nanoelektromehaničkim i mikroelektromehaničkim sustavima i u elektrokemiji. Pokazali su se kao dobri inhibitori korozije na raznim metalnim podlogama U ovom radu istraživan je utjecaj sastava metalne podloge na formiranje zaštitnog filma dugolančane fosfonske kiseline. Na taj način nastojalo se poboljšati korozijsku stabilnost uzoraka CuSn6 i CuPb bronci i čistog bakra u umjetnoj kiseloj kiši. Metodom elektrokemijske impedancijske spektroskopije praćeno je korozijsko ponašanje ispitivanih bronci i bakra sa i bez filma16-fosfonoheksadekanoične kiseline.

SAM ; Fosfonska kiselina ; elektrokemijska impedancijska spektroskopija

nije evidentirano

engleski

The influence of the composition of metallic substrate on the formation of protective film of long-chain organic acid

nije evidentirano

SAM ; phosphonic acids ; electrochemical impedance spectroscopy

nije evidentirano

Podaci o izdanju

50

15.09.2020.

obranjeno

Podaci o ustanovi koja je dodijelila akademski stupanj

Fakultet kemijskog inženjerstva i tehnologije

Zagreb

Povezanost rada

Kemijsko inženjerstvo