Fotolitografski procesi i jetkanje u plazmi (CROSBI ID 487452)
Prilog sa skupa u zborniku | izvorni znanstveni rad | domaća recenzija
Podaci o odgovornosti
Sinovčević, Renata ; Gojo, Miroslav
hrvatski
Fotolitografski procesi i jetkanje u plazmi
Veliki napredak u fotolitografiji je pojava elketronske i X-ray fptplitografije kao nove generacije sunmikronskih tehnologija. Plazma jetkanje je napredak u procesu jetkanja submikronskih rešetki uspoređujući mokre kemijske metode jetkanja. Brzina plazma jetkanja varira s tlakom, smnagom izvora, i plinskom smjesom koje su prodiskutirane u radu.
fotolitogtafija; plazma jetkanje silicij
nije evidentirano
engleski
Photolitographic process and plasma etching
nije evidentirano
photolitography; plasma etching; silicon
nije evidentirano
Podaci o prilogu
75-78.
1991.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
11. znanstveno-stručni simpozij Intergrafika '91 : Zbornik radova
Lovreček, Mladen
Zagreb: Grafički fakultet Sveučilišta u Zagrebu
Podaci o skupu
Znanstveno-stručni simpozij Intergrafika (11 ; 1991)
predavanje
18.10.1991-21.10.1991
Zagreb, Hrvatska
