Karakterizacija dielektričnih slojeva u poluvodičkoj industriji (CROSBI ID 487172)
Prilog sa skupa u zborniku | izvorni znanstveni rad | domaća recenzija
Podaci o odgovornosti
Sinovčević, Renata ; Muštra, Srećko ; Gojo, Miroslav ; Praček, Borut
hrvatski
Karakterizacija dielektričnih slojeva u poluvodičkoj industriji
Dielektrični slojevi u poluvodičkoj industriji služe za zaštitu mikroelektroničkih elemenata od vanjskih utjecaja, za intermetalnu izolaciju, kao barijera alfa česticama, kao maskirajući slojevi za selektivnu izmjenu vodljivosti poluvodičkog substrata kao i u nekim drugim postupcima. Danas se od anorganskih slojevaa najviše koriste silicijev nitrid, te silicijev oksid, a od organskih dielektrika polimerni slojevi poliimidnog tipa. Izbor odgovarajućeg dielektrika ovisi o njegovim fizikalnim, termičkim i električnim svojstvima. navedena svojstva moraju biti u najužoj vezi s procesom depozicije sloja. Ovaj rad iznosi rezultate karakterizacije silicijevog nitrida kao predstavnika anorganskih, te poliimida kao predstavnika organskih dielektričnih slojeva. Dobiveni rezultati ukazuju da i anorganski i organski tip dielektričnog sloja zadovoljavaju postavljene zahtjeve zaštite mikroelektroničkih elemenata, a kombinacija silicijevog nitrida i poliimida dala bi najbolju zaštitu.
dielektrični slojevi; poliimid; poluvodička industrija; silicijev nitrid
nije evidentirano
engleski
Characterisation of dielectric layer in semiconductive idustry
nije evidentirano
dielectric layer; polyimid; semiconductor insustry; silicon nitride
nije evidentirano
Podaci o prilogu
367-370.
1985.
objavljeno
Podaci o matičnoj publikaciji
IX. jugoslovenski simpozijum o elektrohemiji : radovi
Adžić, Radoslav ; Nikolić, Branislav
Beograd: Srpsko hemijsko društvo
Podaci o skupu
Jugoslovenski simpozijum o elektrohemiji (9 ; 1985)
predavanje
01.06.1985-06.06.1985
Dubrovnik, Jugoslavija